上海思峻GMD2000系列石墨烯高速三級分散機(jī)，可以很好的解決這兩個問題。GMD2000系列的膠體磨（錐體磨）+分散頭的組合，可以先將石墨混合物（配入溶劑和分散劑）研磨細(xì)化，然后再經(jīng)過分散頭，進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象，為石墨烯行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。
石墨烯高速三級分散機(jī)，石墨烯研磨分散設(shè)備
SGN石墨烯研磨機(jī)采用德國的高速研磨分散技術(shù)，通過超高轉(zhuǎn)速（zui高可達(dá)14000rpm）帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子（通常配GM+8SF，定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3mm之間）使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流，在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細(xì)的顆粒（當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑）。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。
我司有著豐富的石墨烯研磨經(jīng)驗(yàn)，跟常州、無錫、長春、寧波、濰坊、深圳、廈門、東莞等地大型鋰電石墨烯、碳納米管生產(chǎn)企業(yè)有著深度合作。公司有樣機(jī)可供客戶實(shí)驗(yàn)，歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)！
石墨烯實(shí)質(zhì)上是一種透明、良好的導(dǎo)體，因?yàn)樗碾娮杪蕵O低，電子遷移的速度極快，因此被期待可用來發(fā)展出更薄、導(dǎo)電速度更快的新一代電子元件或晶體管。也適合用來制造透明觸控屏幕、光板、甚至是太陽能電池。所以越來越多的廠家開始研究和生產(chǎn)石墨烯。
在研究石墨烯的過程中，如何將石墨更好的細(xì)化，以及細(xì)化后團(tuán)聚問題的解決，成為的zui大的難點(diǎn)。
上海思峻GMD2000系列石墨烯高速三級分散機(jī)，可以很好的解決這兩個問題。GMD2000系列的膠體磨（錐體磨）+分散頭的組合，可以先將石墨混合物（配入溶劑和分散劑）研磨細(xì)化，然后再經(jīng)過分散頭，進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象，為石墨烯行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量。
GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。
石墨烯研磨分散機(jī)在設(shè)計(jì)上的突出特點(diǎn)：
1、轉(zhuǎn)速14000rpm相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約4-5倍：
2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì),使之研磨作用力更大，效果更好。
3、德國進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長使用壽命。
4、GMD2000/5中試型研磨機(jī)與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同，中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整，從而將機(jī)器型號升級到工業(yè)化的過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到zui低。
石墨烯研磨分散機(jī)的技術(shù)參數(shù)：
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
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GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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| 流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
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